技术编号:3388602
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜装置,尤其是一种具有定向控制及自控制功能的改进型真空镀膜机。背景技术 在过去的15-20年中,光学薄膜镀制设备出现了令人瞩目的变化。现有真空蒸发镀膜技术一般是在10-2Pa~10-3Pa的真空中加热金属、金属化合物或其他镀膜材料,使其在极短时间内蒸发,从而把纯净的原子沉积到基板表面上形成镀膜层,属于物理气相沉积(PVD)。由于镀制过程中几乎无杂质进入,可以使镀层质量十分优异。真空镀膜室的真空度、镀膜材料的蒸发速率、基板和蒸发源的间距,以及...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。