技术编号：3388662
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种具有检测装置的磁控溅射靶，应用于薄膜太阳能电池低温沉积导电膜层，属于太阳能磁控溅射。 背景技术磁控溅射镀膜是在磁场和电场的交互作用下，氩离子将靶材成分溅射沉积到基片上，由于靶材磁场水平磁力线分布成跑道形状，跑道处最能有效地束缚电子，产生放电，并导致其正下方的靶材被快速刻蚀，尤其是磁场跑道转弯处，由于弯道效应，转弯处靶材刻蚀速度最快，最先被刻穿露出背板，必须及时更换靶材，而靶材其他位置刻蚀相对较慢。目前磁控溅射镀膜设备中，缺乏一种有效检测靶...
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