技术编号:3389393
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种改进型微波等离子化学汽相淀积装置,特别涉及适于用来在基片上形成一层淀积薄膜的改进型微波等离子化学汽相淀积装置。等离子化学汽相淀积过程,是指产生含有高活性基的特殊材料的等离子体,并使活性基在基片的表面上淀积一层薄膜的过程。等离子化学汽相淀积装置是指一种用来实现等离子化学汽相淀积过程的装置。传统的等离子化学汽相淀积装置有一个等离子化学汽相淀积室,该室包括一个带有原料气体进口和出口的真空容器,以及一个电磁波发生装置用来供给产生导入到等离子化学汽相淀...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。