技术编号:3390827
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种镀膜机,特别是适合于柱状靶式的等离子镀膜机。现有镀膜机的等离子加速器蒸发离化源是采用靶的端面蒸发,由于蒸发面定点在靶的端面,所以使被镀工件的膜层正反面不均匀,为此目前只能采用多个蒸发源来弥补这一不足,因而成本将大大增加。另一种是磁控溅射离子镀膜机,它虽然采用柱状靶的侧面蒸发,但需要采用高电压(400伏——600伏)蒸发,由于离化率很低,绕射性也极差,所以不适应在几何形状复杂的工件上镀膜。本实用新型的任务就是提供一种被镀工件膜层均匀牢固可作...
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