技术编号：3391155
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于材料表面的金属等离子体源离子注入的方法及装置。现有的材料的离子注入技术，已知的有离子束离子注入和等离子体源离子注入。前者可进行气体或金属离子的注入，但有视线过程，只适宜于平板型材料的离子注入;后者对不同形状的构件可以进行全方位离子注入，但只适宜于气体离子的注入。所有离子注入层的深度都不大于0.5μm，以上内容请参见United States Patane，No.4764，394，Accq，16，1988，Cost-effective Io...
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