技术编号：3392713
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及物理汽相沉积，特别是用于真空镀膜的柱状磁控溅射源。真空镀膜法是一种将金属或非金属工件置于真空室中，利用辉光放电或弧光放电将工件表面镀上金属或其化合物膜的方法。溅射源是利用辉光放电法，使阴极镀膜材料的原子溅射到镀件的表面上沉积成膜的溅射装置。辉光放电法涉及在真空状态下，在阴极(靶)和阳极(真空室壁)之间施以一般300-1000V的直流电压后，产生直流辉光放电，工作气体被电离，正离子被阴极加速并轰击阴极(靶)表面，使阴极表面的原子溅射到镀件的表面上沉...
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