技术编号:3393461
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术 电浆辅助化学气相沉积(PECVD)系统可用于例如半导体制程中,以沉积硅薄膜于基板之上。现有电浆辅助化学气相沉积(PECVD)系统包含一沉积室,其具有两个或三个电极,当该电极受电压激发时,便会使电极间之反应气体游离,以产生电浆。在很多情况下,该反应气体经由其中之一电极直接供应进入高强度电浆中,该电极一般称为「喷洒头」(showerhead)电极。虽然电浆辅助化学气相沉积(PECVD)已证实为有用的制程,然而本发明发明人确认现有电浆辅助化学气相沉积(...
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