技术编号：3393714
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于电物理装置技术在材料表面改性方面的应用。七十年代初，在低能核物理和加速器技术基础上发展起来的离子注入机已成为半导体材料处理的一个十分有效的手段，得到了广泛应用。近十多年来，离子注入技术(简称为IBII)也逐渐被用于材料表面处理，改善其表面抗磨损等特性。在离子注入过程中，从离子源引出的离子束，经高压静电场加速，扫描，最后打到工件表面上。高能粒子入射工件表面后，和工件近表面层中的晶格粒子相碰撞，被慢化，形成新的化合物，从而使工件表面的物理，化学性能发...
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