技术编号:3394183
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种旋转磁控柱状多弧源和平面磁控溅射源离子镀膜机。属于等离子体表面气相沉积技术。应用于机械、宇航、首饰、建筑装璜件等领域,尤其适用于镀仿金装饰层。现有技术中,如CN90226142.的特点是在一台等离子体镀膜设备中央安装同轴柱状磁控溅射源,在镀膜室壁上安装多个小型多弧蒸发源。是复合源型多弧离子镀膜机。目的在于,既可以只开动多弧源,进行高温镀膜,又可以只开动同轴磁控溅射源,进行低温镀膜。或者同时开动两种弧源,镀两种不同材质的多层膜或合金膜。这种...
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