技术编号：3394198
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型为多弧型离子镀膜机。属于真空等离子体表面沉积技术。现有离子镀膜机多采用单筒式结构。镀膜室的筒壁上装有蒸发离化源，顶上装有上盖，上盖上装有传动装置和工件架。这种镀膜机筒壁上的蒸发离化源，只能实现单向镀膜，镀膜空间未能充分利用，产量较低，在人力、物力上是不经济的。本实用新型的目的在于克服了上述不足，提供了一种新型的由内外两个同轴放置的圆柱状筒壁构成的环形镀膜空间，在内外筒体上同时装有离化源，因而能在正反两个表面上同时进行镀膜，显著提高了设备利用率。本...
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