技术编号:3394204
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种腔式化学反应装置,尤其是采用高频感应加热的高温、冷壁化学反应腔装置。现有用于半导体工艺的化学气相淀积反应室,按加热方式可分为热壁反应室和冷壁反应室。热壁反应室的反应壁温度与反应衬底温度相同;冷壁反应室则反应衬底区处于进行淀积所需要的高温,而反应壁处于相对低的温度。冷壁式反应室可以减少气相中原料气之间的预反应,减少不希望的反应室壁淀积物,因而可改善衬底上生长层的厚度及成份的均匀性。典型的冷壁式反应室是采用高频感应加热的方式,加热石英管内设置...
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