技术编号：3394311
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是一种磁控溅射装置中的溅射源部件。主要用于大平面工件镀膜。现在国内外的一些建筑玻璃镀膜生产线中大都采用平面磁控溅射阴极。这种阴极的结构是在一矩形面上，中心放置一长条同一极性的磁铁，四周边上放另一极性磁铁(如附图说明图1所示)。这种平面阴极虽具有形成镀层均匀性好的优点，但因为只能利用溅射靶环形刻蚀部份，使得靶材的利用率低，只有10％-15％；并难以采用粉末材料作为靶材。在1995年东北大学出版社出版，杨乃恒主编的《幕墙玻璃真空镀膜技术》P108-1...
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