技术编号:3394509
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明与除去附着于离子束注入机内表面的污物有关,具体地说,与用离子束除去注入机内污物的方法有关。离子束注入机被用于给硅片注入或“搀入”杂质,以得到n型或p型非本征物质。这种n型或p型非本征物质被用于半导体集成电路的制作。恰如其名称所暗示,离子束注入机将选定种类的离子掺入硅片内,得到所需的非本征材料。注入自诸如锑、砷或磷等源物质产生的离子,可得n型非本征材料。若需p型非本征材料片,则注入自诸如硼、镓或铟等源物质产生的离子。离子束注入机包括一个离子源,用以从可...
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