技术编号：3395173
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空制膜设备，特别是涉及制膜设备中的装置。众所周知，半导体集成电路、磁带、光盘等都与薄膜制备直接相关，尤其是近年来随着高温超导薄膜、超硬碳氮薄膜以及新型的铁电、光学等薄膜的成功制备，制备薄膜已成为研制和探索新型材料的重要手段。因此薄膜科学是近年来迅速发展的学科领域之一。尽管有多种不同的制膜方法与设备，如何获得新的和高性能高质量的薄膜是大家共同关心的问题，使用活化气体是制备多种薄膜材料所采取的有效措施之一。因为如高温超导薄膜等氧化物薄膜，氧是其...
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