技术编号:3395339
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制备难熔金属和贵金属的化学气相沉积设备,特别是涉及高熔点金属及贵金属的化学气相沉积制备所用的专用设备。背景技术 化学气相沉积是制备材料的一种技术手段。目前,市售的化学气相沉积装置一般用于半导体材料的制备,却没有专门用于高熔点金属和贵金属的化学气相沉积制备的设备。对于用化学气相沉积技术制备金属材料,研究者或生产人员则根据具体任务的需要设计不同的装置来进行材料的研究或试制生产。目前为止,也未见有制备难熔金属和贵金属的化学气相沉积设备的详细的文献和...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。