技术编号:3395400
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种旋转磁控柱状弧源—平面弧源多弧离子镀膜机。属于等离子体表面气相沉积技术。应用于机械、宇航及其他高新,尤其适于镀复合超硬涂层和合金膜。现有技术中,在多弧离子镀膜机中安装的弧源为单一类型的弧源。如美国专利US3793179,ZL89200748.6等的弧源靶材采用端面直径60mm-100mm的小弧源;美国的Vac Tac公司和ZL90100946.6等采用矩形大弧源,弧源靶材长600mm,宽100mm-300mm。这类多弧离子镀膜机中,弧源一...
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