技术编号:3395787
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用等离子体的离子镀膜装置和适用于该装置的操作方法。已知的典型的离子镀膜装置是采用电弧放电的有压力梯度的等离子源或一种HCD等离子源。一种离子镀膜装置包括一等离子发生器(等离子源)。在等离子发生器和位于真空室中的坩埚(阳极)之间产生一等离子束。该等离子束一直延伸到坩埚之中的蒸发材料上将该蒸发材料蒸发。已从蒸发材料中蒸发出来的金属质点被等离子束作用而离子化。该离子化的金属质点按预定量沉积在真空室中位于坩埚对面的基片的表面上。结果可在基片上形成一层...
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