技术编号:3395808
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请是对1996年11月25日所提交的顺序号为08/753413的共同未决申请的部分继续,在此引用该申请以作参考。本发明涉及一种用于从液化状态受控输送气体的系统,并涉及一种包含前述系统的半导体加工系统。本发明还涉及一种从液化状态受控输送气体的方法。在半导体制造工业中,储在气罐中的高纯度气体被供给完成各种半导体制造过程的加工工具。例如,这些过程包括扩散、化学气相沉积(CVD)、蚀刻、溅镀和离子注入。前述气罐一般放置于供气柜内。这些供气柜还装有通过一歧管将前...
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