技术编号:3396742
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用来研磨包括薄膜元件的工件的自动研磨方法。更准确地说,涉及用于在探测薄膜元件的高度的同时连续研磨工件的自动研磨方法,并且涉及利用这种方法的研磨装置。例如,在形成磁头薄膜后,在磁头制造过程中研磨磁头薄膜。在磁头制造过程中,用研磨使磁头的磁阻膜高度和磁头薄膜的间隙有某一恒定的值。对于磁阻层的高度和间隙,要求有亚微米数量级的精度。因此,需要以高精度来研磨工件或磁薄膜。图22A和22B是复合型磁头的说明性的示意图。如图22A所示,复合型磁头包括在基片81...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。