技术编号:3397907
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是在日本专利申请10-17076的基础上作出的,该申请在此引用参考。本发明涉及用于形成结晶硅薄膜的成膜设备,所述硅薄膜可作为例如用于液晶显示器的各个象素的TFT(薄膜晶体管)开关材料、集成电路、太阳能电池等,除了结晶薄膜以外,如有必要,该设备还可用于形成电绝缘薄膜(如硅化合物薄膜)。本发明还涉及形成结晶硅薄膜的方法。无定形硅薄膜已作为半导体薄膜用作TFT等,因为大面积的无定形硅薄膜能在低温下制得。但是,目前需要晶体粒径为200nm或更大,尤其是约30...
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