技术编号:3398268
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及如半导体元件或液晶显示器(liquid crystal display;以下简称LCD)等微电子装置的蚀刻系统及其蚀刻方法,特别是涉及一种根据微电子装置的累积处理数目而采用不同蚀刻时间的蚀刻系统及蚀刻方法。如半导体元件及液晶显示器等微电子装置,集积有许多微细图案,而这种图案是通过多个制造工序而形成。其中有一种蚀刻工序,它包括利用液体蚀刻剂的湿式蚀刻法,及利用等离子体(plasma)的干式蚀刻法。下面,以LCD为例对过去使用的湿式蚀刻法做说明。在制...
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