技术编号:3398819
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属涉及表面沉积技术,尤其涉及多弧离子镀膜技术。多弧离子镀膜技术源于前苏联,七十年代美国授权了多项电弧离子镀膜技术的相关专利。其基本原理是以真空室为阳极,以欲镀材料靶作为阴极安装在真空室壁上,用与阳极等电位的引弧针与表面瞬时接触拉开,引发电弧放电。在一定真空度范围引发所形成的点电弧能在靶表面形成自持的、作随机运动的电弧斑点。这种电弧弧斑的直径约为0.1---100μm,运动速度约100m/S,电流密度约为102-108A/cm2,弧斑所处点温度可达...
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