技术编号：3399206
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种可在真空中使用，配合磁控溅射、加热蒸发等物理气相沉积方法的自旋可控的真空镀膜装置，属于材料技术与器件。背景技术 巨磁阻抗效应是指软磁材料的交流阻抗在外加磁场下发生放大的现象，由于软磁材料具有灵敏度高、响应快、体积小等优点，巨磁阻抗效应在高灵敏磁传感器、磁记录读头等方面应用潜力很大，已经在地磁测量、车速测量等方面有初步应用。早期对巨磁阻抗效应研究集中在丝、膜、带上，随着器件的小型化和集成化，巨磁阻抗材料的研究集中在复合结构丝和膜上，这种三明治结...
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