技术编号:3399216
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及薄膜,尤其涉及。背景技术现有生产旋转陶瓷靶材的工艺通常采用喷涂的方式,包括热喷涂及等离子喷涂等方式,但受喷涂工艺的局限性,目前很困难采用喷涂方式生产具有较厚壁厚的旋转陶瓷靶材,目前采用喷涂方式生产的旋转陶瓷溅射靶材的最大壁厚只是在9毫米左右。这将导致用户不能长时间连续生产,需要频繁停机来更换设备进而影响生产效率提高总生产成本。发明内容 本发明的目的是提供一种制备旋转陶瓷靶材的方法,该方法工艺简单,制得的靶材壁厚较厚、使用时间得到很大的延长。 本发...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。