技术编号：3399960
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制造方法，特别是涉及一种利用高科技产业使用的溅镀设备来量产制造奈米等级的银薄膜，并可应用在各种基材上形成抑菌效果的制造方法。背景技术 真空溅镀使用于半导体、光电、显示器等产业，其基本功能为可溅镀半导体产业中所需的膜层，如金属以及非金属类的金属氧化物、氮化物，其应用的溅镀厚度介于5,000～10,000(1.0μm)间，作为半导体材料的导电层或绝缘层使用，目前尚无任何技术将此高科技设备应用在奈米银抑菌薄膜生产制造方面。所谓奈米银是将贵金属中...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。