技术编号:3402229
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。真空冶金设备二、背景技术在专利U.S 734,480中公开了一套常压下用低价氯化物分解,分别从氧化铝和铝合金中炼铝的设备,该套设备是由反应室、低价氯化铝分解室和氯化铝冷凝室构成的三室连通的设备,反应室的壁为很厚的保温层,而低价氯化铝分解室的壁为导热性好的陶瓷材料。反应室的底部和顶部设有水冷电极,在顶部水冷电极上打了一个轴向的洞,便于从AlCl3升华装置中出来的AlCl3气体通过气体引入管及洞进入反应室。磨得很细的混合均匀的高沸点原料碳和氧化铝置于容器中,通...
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