技术编号:3402602
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。 背景技术溅射技术是制备薄膜材料的主要技术之一,靶材则是溅射镀膜所需的关键 消耗材料,是具有高附加值的功能材料,主要应用于集成电路、信息存储、液 晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等,在玻璃镀膜领域、耐磨材料、高温 耐蚀、高档装饰用品等行业也得到广泛应用,制造用于尖端技术的各种薄膜材 料,不仅使用量大而且靶材质量对金属薄膜材料的性能(厚度、均匀性及膜的 低电阻率等)起着至关重要的决定作用。随着半导体集成电路的发展,在半导体布线线宽不断减小的同时...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。