技术编号:3402838
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,尤其是针对物理气相沉积(PVD)装置的预清洗室(pre-clean chamber)的微粒(particle)污染快速防止方法。在半导体制造过程中,物理气相沉积(以下简称PVD)装置大多被用来进行制作金属镀膜。现有的一种PVD装置如附图说明图1所示,其主要是由一缓冲室(buffer chamber)1、一预清洗室2、一转移室(transferchamber)3、一制作室(process chamber)4、及一机械手臂5等构成。其中,该预清洗室...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。