技术编号:3402888
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是涉及例如像基于气体等离子体进行成膜的等离子体CVD装置、基于气体等离子体的利用溅射靶进行溅射膜形成的装置、基于气体等离子体进行刻蚀的等离子体刻蚀装置、从气体等离子体引出离子进行离子注入和离子掺杂的装置等那样的使用等离子体的各种装置,而且还涉及像利用那些装置的各种半导体或者它的元器件的制造装置、以及液晶显示装置或者它的元器件的制造装置等那样使用等离子体的各种装置中能够利用的等离子体发生装置。背景技术 虽然已经知道产生气体等离子体的各种方法,但是其中,...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。