技术编号:3403074
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及成膜装置,特别是涉及使用通过气化有机金属等液体或气液混合状态的原料而得到的原料气体,进行成膜的装置的结构。本发明还涉及能够适用于上述成膜装置的气化器。背景技术 在气化器中使有机金属的液体原料或者将有机金属的原料溶解在溶剂中并液体化而得到的原料等气化,形成原料气体,利用该原料气体进行成膜的成膜装置例如CVD(化学气相沉积)装置已经被公知。作为这种成膜装置的典型例有MO(有机金属)CVD装置,可以用于形成PZT(Pb-Zr-Ti氧化物)和BST(Ba...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。