技术编号:3403247
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总地涉及衬底制造技术,尤其涉及一种用于最优化等离子体处理系统中的大气等离子体的装置。背景技术 在衬底(诸如,半导体衬底或使用在平板显示器的制造过程中的玻璃嵌板)处理过程中,常常采用等离子体。以衬底处理过程的一部分为例,将衬底划分为多个小片或矩形区域,其中的每个小片或矩形区域都将成为集成电路。然后,通过一系列有选择地移除(蚀刻)和沉积材料的步骤对衬底进行处理。接着,由于从目标门信号宽度的每纳米的偏离都可能直接转换成这些器件的操作速度,因此最重要的是将晶...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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