低温聚硅tft用的多层高质量栅介电层的制作方法技术资料下载

技术编号:3403410

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本发明之实施例有关于一种使用等离子处理系统以制作电子组件之 设备及方法。背景技术在制作平面面板显示器(FPD)、薄膜晶体管(TFT)与液晶单元时,通过 沉积与移除在玻璃基板上的多层导电材料、半导体材料与介电材料而形成 金属内联机与其它特征。所形成之各种特征整合于一个系统中而产生如主 动矩阵式显示屏幕,在其中显示状态在FPD上之每一个像素中产生。用 以生产FPD之制造工艺技术包含等离子增强型化学气相沉积(PECVD)、物 理气相沉积(PVD)、蚀刻等。等离子...
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