技术编号:3403876
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种常压等离子体抛光设备。背景技术 现代短波光学、强光光学、电子学及薄膜科学的发展对表面的要求非常苛刻,其明显特性是表面粗糙度小于1nm Ra。这类表面用作光学元件时,为获得最高反射率,特别强调表面低散射特性或极低粗糙度值;用作功能元件时,因多为晶体材料,相对于表面粗糙度而言,更注重表面的晶格完整性。我们统称这两类表面为超光滑表面(ultra smooth surface)。超光滑光学零件加工多采用金刚石超精密切削加工或各种传统的磨削、抛光加工。...
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