技术编号：3404372
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。具有盖板的等离子处理室及其气体分配板组件本发明是有关于用以改良在沉积处理室中的膜沉积均勾性的档板。技术背景液晶显示器或平面面板经常被用以作为例如电脑或电视机的主动矩阵显示器。等离子加强化学气相沉积(PECVD)大致被用以在例如平面面板显 示器的透明基板的基板或半导体晶圓上沉积薄膜。PECVD大致藉由将前驱 气体或气体混合物引入含有一基板的真空室内，而加以完成。前驱气体或 气体混合物典型被向下导引穿过位在接近室顶部的气体分配板。施加来自 一或数个耦接至室的射...
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