技术编号：3404381
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种光学薄膜镀制过程中的监控设备。背景技术到目前为止，监控任意厚度的方法主要有石英晶体监控、单波长监控和宽光谱监控三种。石英晶体监控是测量由于膜层沉积引起石英晶体频率下降而得到膜层厚度的方法。其主要优点是随着膜厚的增加，频率线性的下降，与薄膜是否透明无关，同时，晶控仪还可以控制沉积速率。缺点是晶体测量经过转换给出的是膜层的几何厚度而不是光学厚度，在膜层的制备过程中或多或少的都会在膜层的折射率、吸收系数等方面存在有一定的差异，因此要想得到很好的...
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