技术编号:3404667
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及成膜装置,匹配器以及匹配电路阻抗控制方法,特别涉及,采用等离子体;^文电而进行成膜的成膜装置、被安装在该成膜装置上的匹配器、 以及控制该匹配器的匹配电路的阻抗的匹配电路阻抗控制方法。背景技术低温下形成薄膜的技术之一 ,是利用通过高频电力或微波电力产生的等 离子体放电的等离子体CVD法。等离子体CVD法,由于可以通过等离子体 放电激发与成膜相关联的化学种,从而可以降低成膜温度。对于等离子体CVD法必不可少的技术之一,是发生等离子体放电的电 力系统中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。