技术编号:3405188
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用经远程活化含有氧源、氟化硫和氮源的气体混合物 而产生的活化的气体混合物来除去表面沉积物的方法。更具体地,本 发明涉及使用通过远程活化含有氧源、氟化硫和氮源的气体混合物而 产生的活化的气体混合物来除去化学气相沉积腔内表面上沉积物的方法。2. 相关现有技术的描述在半导体加工工业中,需要对化学气相沉积(CVD)腔和等离子 体增强化学气相淀积(PECVD)腔进行常规清洗。常见的清洁方法包 括原位等离子体清洗和远程腔等离子体清洗。在原位等离子体清洗过程中...
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