技术编号:3406672
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积工艺,尤其涉及一种可提高化学气相沉积工艺稳 定性的方法。背景技术随着化学气相沉积(Chemical Vapour D印osition;简称CVD)技术的飞速 发展和自动化水平的提高,现通常所使用的CVD设备(例如等离子体增强型化 学气相沉积(PECVD)设备和高密度等离子体化学气相淀积(HDPCVD)设备)中 均使用了气体质量流量控制器(Mass Flow Controller;简称MFC)来精确控制 反应气体进入设备反应腔。MFC内...
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