技术编号:3406798
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于信息材料,涉及尖晶石结构铁氧体薄膜的制备方法 背景技术随着现代通讯技术的迅猛发展,电子元器件的薄膜化、集成化、高频化必将使铁氧体薄 膜大有用武之地。高密度垂直磁记录介质、薄膜磁头、薄膜变压器和薄膜电感器,单片微波 集成器件、多层膜器件以及生物工程、医疗诊断技术、磁性药物的发展将进一步加快铁氧体 薄膜研究的步伐。同时,沉积铁氧体薄膜技术仍将是十分重要的研究内容之一。就应用的角 度看,关键是开发在不同种类、形状的基片上,低温沉积具有良好附着力和电磁性...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。