技术编号:3408597
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种使用于气相沉积设备中,用于承载晶圆基板的载盘结构。 背景技术有机金属气相沉积机台(Metalorganic Chemical Vapor Phase Deposition, MOCVD)是制造发光二极管(LED)的关键设备,设备所珩生的制造成本能与传统技术竞争, 所生产的LED才会有竞争性,因此,MOCVD的演进仍是不断进行中课题。MOCVD的容量是评估 LED制造成本的一项重要依据。1988年时,第一台商业化的MOCVD机台可承载一片2...
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