技术编号:3408977
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于等离子体表面物理气相沉积。背景技术传统的真空镀膜机由真空系统、加热系统、偏压电源、供气系统、工件传动系统以及金属离子蒸发源组成。在较高温度条件下镀制薄膜。本发明的设备,在传统镀膜机的基础上增加平面离子源,产生气体离子清洗和增强沉积薄膜,镀膜设备及工艺的优点在于镀膜温度低,膜基结合力高,易于控制薄膜的结构和性能。发明内容本实用新型的目的就是提供一种平面离子源产生气体离子,清洁活化工件表面和增强沉积高结合力薄膜的平面离子源增强沉积镀膜机。本实用新...
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