技术编号:3411153
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种适合用于平板显示器栅极和源极/漏极的蚀刻组合物,所述蚀刻组合物能批量湿蚀刻由选自Ti、Ti合金、Al和Al合金组成的组中的至少一种制成的单层膜或多层膜。背景技术平板显示器基板上形成金属线的典型工艺包括采用喷溅形成金属层,涂抹光刻胶,进行图片曝光和显影以致光刻胶在选定区域成形,以及进行蚀刻,并在各个这些单个工艺前或后进行清洗。将光刻胶用作掩膜进行蚀刻工艺使得金属层留在选定区域上,蚀刻工艺可包括使用等离子体或类似物的干蚀刻或使用蚀刻溶液的湿蚀刻。...
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