技术编号：3411182
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光沉积装置，包括至少一个靶、与所述至少一个靶相对布置的基底以及用于产生激光束的激光器，所述激光束指到所述靶上，使得靶材的等离子体羽流 (plume)被产生并且沉积到所述基底上。背景知识激光沉积，特别是脉冲激光沉积(PLD)是用于将覆层布置在目标上的已知技术。 通过该技术，靶材的材料被激光烧蚀，使得该靶材的等离子体羽流被产生。该等离子体羽流随后沉积到基底上，从而导致在基底上的靶材的覆层。PLD首先开发用于涂覆小尺寸基底表面，典型地为10毫米乘10...
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