技术编号：3411705
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在富有延性的基质相内存在金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其它无延性的物质的靶，其表面缺陷少，并且粉粒产生少；本发明还涉及该靶的表面加工方法。背景技术溅射法作为薄膜的形成手段是已经广为人知的技术。其基本原理为在氩气等的稀薄气体中在需要形成薄膜的衬底(阳极侧)和与其间隔短间距相对的包含薄膜形成物质的靶(阴极侧)之间施加电压，由此将氩气等离子体化，由此产生的氩离子撞击作为阴极物质的靶，利用其能量使靶的物质飞出(击出)到外部，由此该飞出的物质层叠...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。