技术编号：3411799
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及ー种与涂层设备相关的，尤其是与真空一涂层设备相关的清洁方法。在涂层时，通常必须在涂层室中给有些不期望被涂层的表面进行涂层。这些表面可能是，例如，室的某些部分以及部分待涂层的衬底以及支撑面或其它副面。通常，经一次或多次涂层后必须很吃力地对它们进行清洁。尤其是，如果其对于不期望被涂层的部分在涂层时会影响到表面性能，例如，导电性，这种清洁工作特备有必要。利用按照本发明的方法将大大地简化这种清洁工作。按照本发明，不期望地被涂层的表面被称作副面，而期望地被...
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