技术编号：3412260
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明大体而言涉及薄膜光伏(PV)器件，且更具体地说涉及一种用于形成薄膜 PV器件的具有高织构和高反射率的背反射层的改善型工艺。更特定来说，本发明提供一种 用于形成一改善型背反射层的工艺，并考虑到对该背反射层织构与反射率的更好控制。背景技术近些年来，薄膜PV器件已经得到了深入的研究和发展，其可以通过在低成本基板 (诸如，玻璃、不锈钢等)上形成薄膜PV半导体材料(诸如，薄膜硅基非晶硅(a-Si))来生产。图1图示现有技术中已知的制作在金属基板12上的a-Si...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。