技术编号：3413477
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蒸发设备，更具体地，涉及适于使用掩模的蒸发的蒸发设备。 背景技术当通过诸如溅射或蒸发等的真空膜形成方法以特定图案形成构成有机电致发光 (EL)元件的有机化合物层或电极时，作为特定方法，广泛并且通常采用利用具有与要形成膜的区域对应的开口的遮蔽掩模(shadow mask)的构图。近年来，随着对于越来越高分辨率元件的要求，能够以高精度形成高分辨率图案所利用的真空蒸发用掩模变得必要。在真空蒸发设备中，当在掩模上覆盖其上要形成薄膜的基板(膜形成基板)并且...
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