技术编号:3413691
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,是一种含量可调节的稀土加入方法。属于薄膜材料与现代表面工程的物理气相沉积(PVD)。背景技术 真空离子镀膜技术,简称离子镀(Ion Plating)。通过真空离子镀,可在高速钢、硬质合金和其它工模具材料基体上,涂覆一层硬质涂层(例如TiN、TiCN、(Ti,Al)N、(Ti,Cr)N、(Zr,Cr)N、CrN等),是提高刀具、模具耐磨性、热稳定性,延长其服役寿命的有效途径之一。自上世纪80年代以来,离子镀已发展成为世界范围的一项高新技术产业...
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