技术编号:3414001
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种调节结构,尤其涉及一种风管流量调节结构。背景技术化学气相沉积(Chemical vapor deposition, CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。化学气相沉积技术广泛应用于TFT-LCD产业中,化学气相沉积技术可在不改变基体材料的成份和不削弱基体材料的强度的条件下,赋予材料表面特殊的性能,满足工程实际中对材料的要求。然而,在化学气相沉积制程中,往往会产生大量的粉尘...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。