技术编号:3414976
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于溅射镀覆,特别是涉及一种用于电子器件的同端进出式连续溅射镀膜设备。背景技术几乎所有电子器件都要对其一个或多个表面镀以金属薄膜,以便进行电极制作等后续工艺。现有技术多是采用炉装式真空蒸发镀膜,其缺点是蒸镀的薄膜与基片的结合力差、薄膜的均勻性与一致性不佳、生产效率低下,容易导入操作工的人为因素影响。中国 200610049197. 3号专利公布了一种连续式溅射设备,该设备由预抽室、前过渡室、溅射室、 后过渡室和减压室五个真空腔体以及进片台、出片台、工...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。